昨天，Intel在日本举行记者说明会，公开展示了基于45nm工艺的Penryn处理器，该处理器将在2007年下半年发布。同时，Intel还在会上介绍了2008年将发布的下一代处理器架构Nehalem的相关细节。
Intel未来将保持每两年交替更新一次工艺和架构的节奏，2007年推出45nm工艺产品，2008年将会发布新一代架构Nehalem，其在Core微架构基础上还会有大幅改动，预计性能将有明显提升。
Intel日本公司代表董事吉田和正表示，由于采用了45nm的高k与金属栅极制造工艺，Penryn处理器的晶体管数量可以比当前的处理器提高近2倍，使硅片尺寸可以更经济，处理器核心尺寸可以减小25％。同时，由于采用了金属栅极制造工艺和高K技术，Penryn处理器的晶体管切换速度提高了20％以上，并且提高了IPC（每时钟执行指令数），减小了漏电流，从而降低了功耗。
Penryn虽然依然基于酷睿微架构，但在很多规格上进行了更新。例如引入SSE4指令集，支持1600MHz FSB，频率也将突破3GHz，并且缓存容量也将进一步提升——双核处L2缓存最高可达6MB，而四核可达12MB。
以上这一系列更新，将让Penryn处理器的性能有20～45％的提升。在工作站和高性能计算方面，Penryn性能提升将达45％，在多媒体应用方面，例如视频编解码会有40％左右的提升，而大家关心的游戏性能，也会有20％的提升。
据介绍，Intel Penryn家族包括六款产品，包括双核和四核台式机处理器、双核移动处理器（均采用Intel酷睿处理器品牌名称），以及全新双核和四核服务器处理器（采用Intel至强处理器品牌名称）。Intel在开发过程中的不同阶段研发了逾15款45纳米高-K产品设计，并将于今年年底在两个45nm制造工厂投入生产，计划于2008年下半年在四个工厂批量生产。
关于2008年将登场的Nehalem微架构，Intel并没有做过多的介绍。吉田表示，新架构将依然基于45nm Hi-K工艺，值得注意的是，Nehalem架构处理器将首次整合内存控制器。这样一来，未来桌面处理器将统一这一标准，主板芯片组规格也会随之有所调整。 |
